新聞中心

聯係我們

太倉鑫昌光電材料有限公司

地址:江蘇省太倉市沙溪工業開發區環路98號
聯係人:陳麗

郵箱:ivy@e-tcmc.com.cn

電話:0512 -5330-3566-3005

傳真:0512-53303066

郵編:215421

鑫聯金屬資源(太倉)有限公司
地址:江蘇省太倉市沙溪鎮工業開發區環路98號
聯係人:劉佳
郵箱:kitty@e-tumc.com.cn
電話:0512-3301-0018-3005
傳真:0512-53303066

郵編:215421

網址:http://www.joannatse.com/


什麽是濺射靶材?

您的當前位置: 首 頁 >> 新聞資訊 >> 公司新聞

什麽是濺射靶材?

發布日期:2014-11-12 00:00 來源:http://www.joannatse.com 點擊:

    磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式,較之較早點的蒸發鍍膜方式,其很多方麵的優勢相當明顯。作為一項已經發展的較為成熟的技術,磁控濺射已經被應用於許多領域。   
磁控濺射原理:
    在被濺射的靶極(陰極)與陽極之間加一個正交磁場和電場,在高真空室中充入所需要的惰性氣體(通常為Ar氣),永久磁鐵在靶材料表麵形成250~350高 斯的磁場,同高壓電場組成正交電磁場。在電場的作用下,Ar氣電離成正離子和電子,靶上加有一定的負高壓,從靶極發出的電子受磁場的作用與工作氣體的電離 幾率增大,在陰極附近形成高密度的等離子體,Ar離子在洛侖茲力的作用下加速飛向靶麵,以很高的速度轟擊靶麵,使靶上被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以 較高的動能脫離靶麵飛向基片澱積成膜。 磁控濺射一般分為二種:支流濺射和射頻濺射,其中支流濺射設備原理簡單,在濺射金屬時,其速率也快。而射頻濺射的使用範圍更為廣泛,除可濺射導電材料外, 也可濺射非導電的材料AG娱乐游戏,同時還司進行反應濺射製備氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射頻的頻率提高後就成為微波等離子體濺射,目前常用的有電子回旋 共振(ECR)型微波等離子體濺射。   
磁控濺射鍍膜靶材:
    金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材 ,氮化物陶瓷濺射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺射靶材 ,矽化物陶瓷濺射靶材 ,硫化物陶瓷濺射靶材 ,碲化物陶瓷濺射靶材 ,其他陶瓷靶材,摻鉻一氧化矽陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化銦靶材(InP),砷化鉛靶材(PbAs),砷化銦靶材(InAs)。   
高純高密度建設靶材有:   
濺射靶材(純度:99.9%-99.999%)   
1. 金屬靶材:   
鎳靶、Ni、鈦靶、Ti、鋅靶、Zn、鉻靶、Cr、鎂靶、Mg、铌靶、Nb、錫靶、Sn、鋁靶、Al、銦靶、In、鐵靶、Fe、鋯鋁靶、ZrAl、鈦鋁 靶、TiAl、鋯靶、Zr、鋁矽靶、AlSi、矽靶、Si、銅靶Cu、鉭靶T、a、鍺靶、Ge、銀靶、Ag、鈷靶、Co、金靶、Au、釓靶、Gd、鑭靶、 La、釔靶、Y、鈰靶、Ce、鎢靶、w、不鏽鋼靶、鎳鉻靶、NiCr、鉿靶、Hf、鉬靶、Mo、鐵鎳靶、FeNi、鎢靶、W等。   
2. 陶瓷靶材:   
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化矽靶、碳化矽靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化矽靶、一氧化矽靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二 铌靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二铌靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅 靶、氮化鋁靶,氮化矽靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化矽靶,铌酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。


相關標簽:AG娱乐游戏

上一篇:沒有了
下一篇:靶材的主要性能要求
在線客服
二維碼

掃描二維碼

分享
歡迎給我們留言
請在此輸入留言內容,我們會盡快與您聯係。
聯係人
座機/手機號碼
祥雲平台技術支持